پوشش دهی سطح فلزات به دو روش Sol Gel و کاشت یون با پلاسما

فرمت فایل : power point  (لینک دانلود پایین صفحه) تعداد اسلایدها 26 اسلاید

چکیده :

جهت پوشش دهی سطح فلزات روش های مختلفی همچون رسوب دهی شیمیایی بخار (CVD) و لایه نشانی الکترولیتی کاتد و ... استفاده می شود که 2 روش Sol gel و کاشت یون با پلاسما نیز روش هایی جهت پوشش می باشند. فرآیند Sol gel شامل یکسری واکنش های شیمیایی تغییرناپذیر است که در حقیقت این واکنش ها باعث تبدیل مولکول های محلول هموژن اولیه به عنوان سل به یک مولکول نامحدود سنگین سه بعدی پلیمری به عنوان ژل می شوند و در روش پلاسما اسپری گاز تشکیل دهنده پلاسما که در مرحله شروع قوس آرگن یا هلیم است و پس از برقراری قوس پایدار به ترکیبی از آرگن یا هلیم یا هیدروژن یا نیتروژن تبدیل می شود از بین کاتد و آند عبور کرده و بر اثر تخلیه الکتریکی این ناحیه یونیزه می گردد. مقدار انرژی صرف شده برای یونیزه کردن گاز، در ناحیه ای در خارج گذرگاه مابین کاتد و آند آزاد شده و به گرما تبدیل می گردد و بدین ترتیب دمایی در حدود 15000 درجه سانتیگراد حاصل خواهد شد و مولکول های منبسط شده گاز با سرعتی نزدیک به صوت ذرات ماده پوشش به صورت پودر را که ذوب شده اند، به سمت سطح قطعه خواهند راند و بدین ترتیب پوششی متراکم با چسبندگی بالا حاصل خواهد شد.

روش های مختلف پوشش دهی

1- روش پاشش حرارتی

در این حالت از پودر برای تولید پوشش استفاده می‌شود. به این صورت که پودر را با قدرت به سمت قطعه مورد نظر می‌پاشیم و در مسیر پاشش، پرتولیزر را قرار می‌دهیم. پرتو لیزر با سرعت و قدرت زیاد محیط را گرم می‌کند و باعث می‌شود پودر در مسیر به صورت مذاب در آید وقتی پودر با سطح تماس پیدا می‌کند، به علت اختلاف دما پس از برخورد سریعاً سرد می شود و پوشش نانو ساختار را شکل می‌دهد.